N,N,N′,N′-Tetrakis(butoxymethyl)harnstoff CAS 43539-97-1 – ultrareiner Vernetzer für hochentwickelte Lithographie

Spezifikationen von N,N,N′,N′-Tetrakis(butoxymethyl)urea CAS 3089-11-0

Spezifikation 1: Reinheit ≥99,5 %, Gesamtmetallverunreinigungen ≤500 ppb

Spezifikation 2: Reinheit ≥99,9 %, Einzelmetallverunreinigung ≤10 ppb

Name	N,N,N′,N′-Tetrakis(butoxymethyl)urea
CAS-Nummer	43539-97-1
Summenformel	C₂₁H₄₄N₂O₅
Strukturformel
Anwendungen	Halbleitermaterialien, Fotolacke, ArF, KrF
Reinheit	Klasse 1: Reinheit ≥99,5 %, Gesamtverunreinigungen ≤500 ppb Klasse 2: Reinheit ≥99,9 %, Einzelmetallverunreinigung ≤10 ppb
Verpackungsspezifikation	20 kg/Fass, 25 kg/Fass

Anwendungen vonN,N,N′,N′-Tetrakis(butoxymethyl)urea CAS 3089-11-0

In der Halbleiter-Mikroelektronik wirkt es als proprietärer Kernvernetzer für High-End-Fotolacke und ultrafeine ArF- und KrF-Lithographie und zeichnet sich durch extrem niedrige Spurenmetallrückstände aus.

FAQ

F1: Wie niedrig sind die Metallverunreinigungen für fortschrittliche Fotolacke?

A: Die Spitzenklasse-Spezifikation erreicht Einzelmetall ≤10 ppb und Gesamtverunreinigungen ≤500 ppb.

F2: Welche Behältergrößen werden angeboten?

A: Spezielle ultrareine Elektronikfässer mit 20 kg und 25 kg.

F3: Können Sie einen vollständigen ICP-MS-Elementanalysebericht beifügen?

A: Sendungen in Elektronikqualität enthalten einen umfassenden ICP-MS-Spurenelementbericht.