Spezifikation 1: Reinheit ≥ 99,5 %, Gesamtmetallverunreinigungen ≤ 500 ppb
Spezifikation 2: Reinheit ≥ 99,9 %, Einzelmetallverunreinigung ≤ 10 ppb
| Name | Imidazo[4,5-d]Imidazole-2,5(1H,3H)-dione, tetrahydro-1,3,4,6-tetrakis(methoxymethyl)-3a-methyl-6a-phenyl- |
| CAS-Nummer | 721969-01-3 |
| Summenformel | C₁₉H₂₈N₄O₆ |
| Strukturformel | ![]() |
| Anwendungen | Anwendung in Halbleitermaterialien, Fotolacken sowie im ArF- und KrF-Fotolackbereich. |
| Reinheit | Reinheitsgrad 1: ≥ 99 % |
| Reinheitsgrad 2: ≥ 99 %, Gesamtmetallverunreinigungen ≤ 50 ppb | |
| Verpackungsspezifikation | kg/Beutel, 25 kg/Fass |
In Halbleitern und Fotolacken wird es gezielt als ultrahochreiner Vernetzer in ArF- und KrF-Fotolackformulierungen für die Fertigung von Chips mit fortschrittlichen Technologieknoten eingesetzt.
F1: Welche ultrareinen Qualitäten werden für ArF/KrF-Fotolacke angeboten?
A: Zwei Spezifikationen: ≥ 99,5 % (Gesamtverunreinigungen ≤ 500 ppb) und ≥ 99,9 % (Einzelmetall ≤ 10 ppb).
F2: Mit welchen Analysengeräten werden Spurenmetalle geprüft?
A: Für die Spurenmetallanalyse aller Elemente wird hochempfindliche ICP-MS eingesetzt.
F3: Wie kann man Proben im Rahmen einer Vertraulichkeitsvereinbarung (NDA) anfordern?
A: Nach Abschluss einer NDA werden ultrareine Fotolackproben innerhalb von 5 Werktagen versandt.
Von der kundenspezifischen Synthese bis zur Produktion im kommerziellen Maßstab sind wir Ihr engagierter Partner für heterocyclische aromatische Verbindungen.